专利类型:
相变材料专利导航
公开(公告)号:
JPWO2017200021A1
申请日:
2017-05-17
申请局:
JP
摘要:
本発明においては、コア粒子の表面を、Alイオンを含む溶液中でベーマイト処理して一次被膜を形成した後に、溶液をAlイオンが過飽和となる温度にまで冷却して一次被膜の表面にアルミニウム水酸化物を析出させて二次被膜を形成し、この二次被膜を酸化雰囲気中で熱処理してコア粒子の表面にAl酸化被膜を形成する。このため、二次被膜を形成した分だけシェルの厚膜化が図られ、カプセルの繰り返し強度が担保され、製造プロセス中におけるPCMの組成変化も顕著に抑制される。
原始专利权人:
国立大学法人北海道大学
当前专利权人:
Hokkaido University NUC