微影裝置及製造元件之方法

专利类型: 
相变材料专利导航
公开(公告)号: 
TWI591450B
申请日: 
2016-03-04
申请局: 
TW
摘要: 
一种微影装置,其包含:一投影系统,其经组态以将一所要影像投影至一基板上;一主动模组,其产生一时变热负荷;一温度调节系统,其经组态以将该微影装置之一组件维持在一预定目标温度;及一热缓冲器,其包含与该主动模组热接触之一相变材料,该相变材料具有一相变温度使得由该时变热负荷引起该相变材料经历一相变;且其中在该微影装置之关键操作期间该相变材料相对于该投影系统静止。
原始专利权人: 
ASML荷兰公司
当前专利权人: 
ASML荷兰公司