新型相变存储单元结构及其制备方法

专利类型: 
相变材料专利导航
公开(公告)号: 
CN103794722A
申请日: 
2014-02-20
申请局: 
CN
摘要: 
本发明公开了一种新型相变存储单元结构及其制备方法。该新型相变存储单元结构包括依次沉积于衬底上的第一电极层、氮化物绝缘材料层、相变材料层和第二电极层,该绝缘材料层内设置有加热电极,所述加热电极分别与第一电极层和相变材料层电性接触,并且相变材料层还与第二电极层电性接触。该加热电极优选采用氮化物加热电极。本发明通过采用氮化物绝缘材料层包覆加热电极,能够有效阻止加热电极被氧化,避免出现加热电极阻值不稳定和相变存储器件失效的问题,提高了器件成品率,并大幅降低了器件功耗,且本发明在应用于相变存储器中时,还具有低功耗、高密度和高稳定性等特点,是一种可实现对信息的写入,擦除和读出功能的非易失性半导体存储器。
原始专利权人: 
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
当前专利权人: 
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所