单晶相变材料

专利类型: 
相变材料专利导航
公开(公告)号: 
CN102639257B
申请日: 
2010-11-03
申请局: 
CN
摘要: 
一种制造相变存储器(PCM)单元的方法,包括:在电极之上形成电介质层,电极包括电极材料;在电介质层中形成通孔,使通孔向下延伸到该电极;以及在通孔中的电极上生长相变材料的单晶。一种相变存储器(PCM)单元,包括:包含电极材料的电极;电极之上的电介质层;电介质层中的通孔;以及位于通孔中的相变材料的单晶,该单晶与通孔底部的电极接触。
原始专利权人: 
国际商业机器公司 | 旺宏电子股份有限公司
当前专利权人: 
国际商业机器公司 | 旺宏电子股份有限公司