ENSAMBLAJE DE AISLADOR DE BARRA DE CONTACTO DOBLE PARA LA ELECTRODEPOSICION DE UN METAL Y SUS METODOS DE USO

DONDE LA BARRA DE CONTACTO DE CELDA ELECTROLITICA COMPRENDE: A) UN POLO PRIMARIO; B) UN PAR DE POLOS SECUNDARIOS, LOS CUALES TIENEN UNA CARGA OPUESTA AL POLO PRIMARIO, Y CADA UNO DE LOS CUALES ES ADYACENTE Y PARALELO AL MENCIONADO POLO PRIMARIO; Y C) UN SUJETADOR DE ELECTRODOS CAPAZ DE SOSTENER POR LO MENOS UN CATODO Y UN ANODO. ADEMAS, SE PROPORCIONA UN SISTEMA DE CELDAS ELECTROLITICAS QUE COMPRENDE: a) UNA PARED COMPARTIDA POR EL PAR DE CELDAS ELECTROLITICAS; b) UN POLO PRIMARIO UBICADO EN LA PORCION SUPERIOR DE DICHA PARED; c) DOS POLOS SECUNDARIOS UBICADOS EN UNA PORCION SUPERIOR DE DICHA PARED; d) UNA BARRA DE CONTACTO EN LA PARTE SUPERIOR DE DICHA PARED, LA BARRA DE CONTACTO SE ACOPLA DURANTE LA OPERACION AL POLO PRIMARIO Y A LOS POLOS SECUNDARIOS; e) POR LO MENOS UNA PLACA CONDUCTORA PRIMARIA EN CADA UNA DE LAS CELDAS ELECTROLITICAS, LA QUE SE APOYA EN LA BARRA DE CONTACTO Y SE ACOPLA AL POLO PRIMARIO DURANTE LA OPERACION; Y f) POR LO MENOS UNA PLACA CONDUCTORA SECUNDARIA EN CADA UNA DE LAS CELDAS ELECTROLITICAS, APOYADAS EN BARRAS DE CONTACTO, Y ACOPLADAS A UNO DE LOS PÒLOS SECUNDARIOS DURANTE LA OPERACION; MIENTRAS QUE LA PLACA CONDUCTORA SECUNDARIA DEL MIEMBRO RESTANTE DEL PAR DE CELDAS ELECTROLITICAS SE ACOPLA DURANTE LA OPERACION AL OTRO POLO SECUNDARIO RESTANTE