专利类型:
相变材料专利导航
公开（公告）号:
CN103436187A
申请日:
2013-08-31
申请局:
CN
摘要:
本发明公开了一种相变材料用机械抛光液，包括下列重量份数的物质：表面活性剂1-3份，有机添加剂2-5份，调节剂1-3份，水性介质50-55份，纳米石墨粉1-2份，高岭土1-3份，季戊四醇1-5份，氰尿酸三聚氰胺盐2-3份，蒙脱土1-3份，硬脂酸2-3份，硬脂酸盐3-4份，过氧化苯甲酰1-2份，乙酸正丁酯2-3份，硬脂酰胺1-3份。本发明的抛光液性能稳定，抛光效果好，可满足制备纳电子相变存储器中工艺的需要。
原始专利权人:
青岛承天伟业机械制造有限公司
当前专利权人:
青岛承天伟业机械制造有限公司