专利类型:
相变材料专利导航
公开(公告)号:
CN106816529B
申请日:
2017-01-22
申请局:
CN
摘要:
本发明涉及一种应用相变材料作为隧穿层的自旋电子器件,具体为一种非局域自旋注入器件,其最下端为自旋沟道,所述自旋沟道上方的外侧两端各沉积一普通金属电极,自旋沟道上方中部沉积两个隧穿层,并在隧穿层上各沉积一个铁磁金属电极;其特征在于:所述的隧穿层为能够在温度和光照驱动下发生相变的材料;且该器件进一步包括有温度控制模块或光照控制模块。本发明提出的相变隧穿层(如二氧化钒),可以用温度和光照控制电阻。隧穿电阻可以被人为调控在合适区间内,从而提高了自旋电子器件的性能。
原始专利权人:
北京航空航天大学
当前专利权人:
北京航空航天大学