在硅衬底上复合刺猬状VO2纳米结构的相变材料及制法

专利类型: 
相变材料专利导航
公开(公告)号: 
CN102126702A
申请日: 
2010-01-20
申请局: 
CN
摘要: 
本发明提供了一种在硅衬底上复合刺猬状VO2纳米结构的相变材料及制法,所述相变材料,包括硅片衬底和生长在所述硅片衬底上的VO2晶体,所述VO2晶体沿垂直于硅衬底方向生长。所述VO2晶体为刺猬状结构,由纳米线定向生成。本发明可结合目前成熟的半导体硅集成电路工艺,适合于集成纳米光电子器件的发展。并具有成本低,生长条件简单,重复性高,安全等优点,适合于大规模工业化生产。
原始专利权人: 
华东师范大学
当前专利权人: 
华东师范大学