用于磁共振成像装置的梯度线圈及磁共振成像装置

专利类型: 
相变材料专利导航
公开(公告)号: 
CN111157930A
申请日: 
2018-11-07
申请局: 
CN
摘要: 
用于磁共振成像装置的梯度线圈,包括一个主线圈(10)、一个屏蔽线圈(20)、至少一个嵌入件(30)和一个浇注主体(40)。主线圈用以形成梯度成像磁场。屏蔽线圈环绕主线圈设置并与主线圈相间隔。屏蔽线圈用以形成梯度屏蔽磁场。各嵌入件包含相变材料,并设置为能够与主线圈和/或屏蔽线圈接触。浇注主体通过浇注与主线圈、屏蔽线圈和至少一个嵌入件形成一个浇注整体,以固定主线圈、屏蔽线圈和至少一个嵌入件的相互位置。该梯度线圈在使用过程温度波动小、成像质量高、且更为小型和节能。此外,还提供了包括该梯度线圈的磁共振成像装置。
原始专利权人: 
西门子(深圳)磁共振有限公司
当前专利权人: 
西门子(深圳)磁共振有限公司